產(chǎn)品參數(shù)：
| 型號(hào) | TS-PL150MA |
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz |
| 容量 | 150L |
| 功率 | 0-1000W(可調(diào)) |
| 腔體尺寸 | (長寬高mm)500*500*600 |
| 極板層數(shù) | 7層 |
| 外形尺寸 | (長寬高mm)1200*1100*1730 |
| 真空泵 | 油泵/干泵+羅茨組合 |
| 真空度 | ＜30Pa |
| 腔體材質(zhì) | 316不銹鋼/進(jìn)口鋁合金(選配) |
| 氣體流量控制 | 0-500SCCM(MFC±2%) |
| 氣體通道 | 兩路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
| 等離子體發(fā)生器 | 40KHz/13.56MHz |
| 腔體溫度 | ＜60℃ |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏 |
| 系統(tǒng)控制軟件 | 自主研發(fā)V2.0 |
| 電極陶瓷 | 進(jìn)口高頻陶瓷 |
等離子清洗原理：
等離子清洗原理如下：等離子體與固體表面發(fā)生的反應(yīng)可分為物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，即分為物理清洗和化學(xué)清洗。物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離固體表面并被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走。
就反應(yīng)機(jī)理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。
等離子體清洗的特點(diǎn)：
等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是對(duì)幾乎所有的基材類型，均可進(jìn)行處理。對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚脂、聚丙烯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理。等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害；容易采用數(shù)字控制技術(shù)，自動(dòng)化程度高；整個(gè)工藝流程效率極高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；且正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。
